
一、設備用途:
真空甩帶機是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備,該設備除了具有感應爐的全部特點外,還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,,廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。我公司真空甩帶爐設備已申請國家專利:專利號:ZL201920911700.4
二、設備配置:
設備有高真空腔室,高真空系統,甩帶收集裝置,穩壓儲氣裝置,伺服甩帶裝置,坩堝升降裝置,感應加熱裝置,水冷裝置等組成.
三、主要技術參數
3.1.供電電源:三相五線 AC380V 50HZ 25KW
3.2.樣品最大熔煉量:500g
3.3.輥輪尺寸:φ320mm80mm(水冷銅輥)
3.4.單棍旋轉裝置:銅輥速度:1-3000r/min;(伺服電機控制無極調速)
3.5 甩帶升降:采用電動升降,可調節坩堝與銅輥的精確位置。坩堝頂部裝紅外測溫裝置
3.6.真空度:≦5Pa;(機械泵+羅茨泵+擋板閥+復合真空機)
3.7.熔煉電源功率:25KW;
3.8.甩帶熔煉溫度:500℃-1600℃,帶紅外測溫裝置
3.9.熔煉坩堝:石英或者BN坩堝(氮化硼);根據溫度
3.10.條帶寬度:10-30mm;可根據客戶要求定做合理寬度。
3.11.真空腔尺寸400*480*700(D*L)(以實際為準)
3.12.設備尺寸:2050*1160*1850m(L*W*H)以實際為準
四、設備構成
序號 | 名稱 | 數量 | 序號 | 名稱 | 數量 |
1 | 真空腔室 | 1 | 2 | 甩帶裝置 | 1 |
3 | 甩帶升降裝置 | 1 | 4 | 熔煉系統 | 1 |
5 | 控制系統 | 1 | 6 | 真空系統 | 1 |
7 | 充放氣系統 | 1 | 8 | 爐架 | 1 |
9 | 水冷系統 | 1 | 10 | ||
11 | 12 |
五、結構及功能說明
5.1 真空腔室:采用304不銹鋼方形形結構,內部鏡面拋光,外做拉絲拋光處理,外形美觀。爐體側部鉸鏈式開門,法蘭平面開設密封槽。采用“0”圈真空密封,在爐體的后部設有設有加熱電極裝置,甩帶旋轉裝置等。爐體側部分別設有甩帶收集裝置和真空系統接口。爐門上設有大口徑觀察窗,爐體后部設有照明燈和照明觀測窗,通過前門觀察窗,可以直觀觀測整個工作過程。
5.2甩帶裝置:采用伺服電機驅動,無極調速,密封采用磁流體密封裝置,銅棍拆卸方便。轉動平穩,噪音極低。轉速不受電壓的波動而波動,甩帶速度,坩堝升降高低位置,及升降速度可在觸摸屏上隨意設置。配置φ320mmx80mm(水冷銅輥)冷卻速度 10E4~10E5 K/S
銅輥旋轉速度:1-3000r/min;(伺服電機控制無極調速)旋轉電機采用日本松下5.5Kw伺服電機及控制器。
5.3甩帶升降裝置及測溫:甩帶升降裝置采用伺服電動升降,從而保證實現坩堝與銅輥位置的精密調節。保證拆卸坩堝的便攜性,和甩帶位置的準確性。在坩堝升降桿的上部有一觀測口,用來供紅外測溫用。升降電機采用日本松下100w伺服電機及控制器。
5.4電氣控制:電氣控制配有標準電控柜,美觀單方,設備配置LED10寸昆侖通態國產優質觸摸屏,所有真空獲得,加熱操作的動作都在觸摸屏上完成,甩帶速度,坩堝位置及速度的調節也在觸摸屏上設置完成。操作順序直觀明了。所有動作的執行由日本歐姆龍品牌的plc來完成。加熱電流,甩帶速度、真空數據可直觀顯示。控制系統集成化擺放,占地面積小。所有元器件均采用品牌原件,保證品質,使用安全可靠。
5.5 真空系統:由壹臺機械泵配壓差閥,壹臺分子泵和真空門組成高真空系統,并配充氣閥、放氣閥、空壓力表(±Pa)等。真空度測量有一臺成都睿寶復合真空機來完成,實時顯示爐內真空。
5.6充放氣系統:爐子充放氣配有進口日本CKD真空電磁閥,來實現腔內保護氣氛與真空,真空與大氣之間的切換。為了保證甩帶噴鑄的穩定性,設備還備用充氣儲氣罐,上面配有壓力表,壓力調節閥,節流閥,閥門等,保證在甩帶過程中氣流的穩定性。
5.7 爐架:由型鋼組焊成爐架,用于支撐爐體,并做為操作平臺,使操作更具人性化。爐架表面噴塑處理,保證其美觀度。
5.8 水冷系統:由深圳科姆森水冷機和各種管道閥等相關裝置組成,具有水壓欠壓、斷水聲光報警自動切斷電源功能,保證操作安全 。